“就算中國造出光刻機原型機,也永遠無法量產——因為沒有我們提供的靈魂材料!”
這句話看似帶著日本學界的技術自信,實則隱含了一種錯估現實的傲慢論調。背后,是日本在全球半導體材料供應鏈中長期積累的優勢。但現實卻遠比這句話復雜——日本的核心地位是真實的,中國的努力和突破也不容忽視。
不可否認,在半導體材料領域,日本確實擁有世界級的深厚積累:
光刻膠市場占有率高達約90%,尤其是先進制程所需的 E?V 光刻膠幾乎由日本企業壟斷。日本廠商如 JSR、Tokyo Ohka Kogyo (TOK)、信越化學 等掌控了這類高端材料的全球供應,特別在純度、穩定性等技術指標上,日本產品難以替代。
其他關鍵材料供應占全球重要份額:硅晶圓:日本的信越化學與 SUMCO 控制全球大尺寸硅晶圓市場的半壁江山。涂布、顯影設備及配套材料:東京電子(TEL)等也長期占據高份額。全球半導體供應鏈對這些材料的依賴形成了事實上的“隱形鎖鏈”。
換句話說,從原材料的精純到化學配方的穩定性,從認證周期漫長到供應鏈協同,日本材料行業的門檻確實高得讓人仰望。
近年日本對包括高端光刻膠、電子特氣在內的多類關鍵半導體材料實施了嚴格審批制度,甚至對部分中國企業列入了“最終用戶清單”,限制出口流程。一些觀點更認為,日本相關企業已暫停對某些中國客戶交付光刻膠原料及相關服務,并收緊售后與備件供應,這導致中國晶圓廠面臨庫存壓力。
在這種背景下,日本學者才說出那句看似霸氣的判斷。然而,這種論斷忽略了幾個事實:
雖然日本在光刻材料領域確實占據主導,但中國在多個層面也已發動反擊:
國產光刻膠實現了量產和驗證
國內企業如 南大光電 的 ArF 光刻膠產品已經進入芯片制造企業驗證階段,并開始小批量銷售,產品質量穩定,在成熟制程中逐步替代進口。 一些媒體還報道,如武漢太紫微等公司開發的 KrF 光刻膠產品已通過量產驗證,其極限分辨率已經達到某些成熟工藝需求指標。 這些成果雖未完全覆蓋先進∕高端市場,但已經突破了“無可替代”的局面。
國內光刻機研發也步入實用階段
中國部分科研團隊和企業已在深紫外(DUV)光刻機上取得實質性突破,能夠用于生產 8nm 等晶片(雖然與荷蘭、日韓的技術水平還有差距)。 這意味著,即便日本掌握高端材料,中國在某些制程上也有可能依靠國產設備和材料形成聯合突破路徑。
企業與科研合力加速產業生態
中國芯片材料企業陸續成立,還積極引進國際人才、與全球供應鏈合作。例如華為背景的珠海基石科技等企業,旨在打造光刻膠、CMP 漿料等多個關鍵材料的國產化供應體系。 這種產業生態的建設,意味著中國并非等待日本施舍技術,而是在構建自主可控供應鏈。
日本材料企業的積累不容小看,但“永遠無法量產”的絕對判斷顯然夸大了自身優勢、低估了中國的韌性。全球半導體供應鏈本來就不是單一國家能完全主宰的生態體系。技術替代不是一朝一夕,但已有中國企業在特定節點打破了“無解”的局面。國家政策、資本投入、產業協同正在為突破這些所謂“靈魂材料瓶頸”提供前所未有的支持。
半導體產業不是單一的技術點,它更像一條巨大的系統工程鏈條。日本企業確實擁有光刻膠等關鍵材料的高端市場優勢;日本管制措施確實給中國供應鏈帶來壓力;但中國在成熟制程、中間工藝產品、相關配套材料上已實現部分替代,并正在努力推進更高端材料的研發。
如今,中國已在政策、資金、科研和市場多方面展開攻堅,絕不是昔日“只能仰望別人材料實力”的舊格局。戰略上,中國正在將“被卡脖子”變成“突破口”,使得日本曾經的傲慢預言更像是對現實動能的誤判。
曾經的日本在材料供應鏈的絕對優勢,是半導體行業歷史沉淀的結果;而今天的中國,在突破這些技術壁壘的道路上正在用行動回應質疑。
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