荷蘭技術專家：大概 10 年以后，中國才能造出自己的 EUV 光刻機，但屆時，ASML 仍將遙遙領先

近年來，中國芯片話題持續引爆全球科技圈——尤其是關于 EUV（極紫外光）光刻機的研發進展。荷蘭技術專家、半導體深度觀察者馬克·海金克在訪談中指出，中國要真正自主制造出能夠與目前 ASML 系列 EUV 光刻機相媲美的系統，可能還需要約十年時間。

在芯片制造中，光刻機是最核心、最復雜、最昂貴的設備，它決定了芯片圖形能否走向更小的節點、性能更強的制造水平。ASML 作為全球唯一能量產 EUV 光刻機的廠商，其一臺設備動輒高達 3 億美元以上，并且進入中國市場受到了嚴格的出口限制。

美國政府從 2019 年起重拳禁止最先進的 EUV 光刻機出口到中國，這是全球芯片供應鏈中最具戰略意義的出口控制措施之一。中國因此無法通過采購來縮短與國外先進水平的差距，這也是促使國內自主研發光刻設備的重要驅動力。

在這種背景下，中國選擇不再等待，而是主動迎難而上，一方面強化既有設備的國產化率，另一方面挑戰 EUV 光刻機這一“皇冠上的明珠”。這種選擇，不僅是技術追趕，更是國家戰略自立自強的體現——它關乎未來十年的科技命運，更關乎產業安全。

近年來，中國在光刻技術上確實取得了實質性的進展：

1. EUV 原型機已進入測試階段

有多個獨立報道指出，中國某些團隊已經在 2025 年組裝了 EUV 光刻機的原型樣機，并實現了 13.5 nm 波長的 EUV 光源輸出，這是 EUV 光刻機最難攻克的部分之一。該系統幾乎填滿了整個廠房空間，目前正在進行實驗性測試。

這意味著中國研發團隊已經跨越了“理論與實驗室驗證”的最初階段——進入了一個非常關鍵的驗證階段：能否穩定產生足夠強度、持續工作、高效率、高可靠性的 EUV 光源。這是全球光刻機研發最核心的難題之一。

2. 多種技術路線在中國本土展開

中國研發 EUV 光刻機的解決方案正在多線并進：有團隊采用 類似 ASML 的激光高溫等離子體（LPP）技術；另一批研發人員走 激光助力放電等離子體（LDP）路線，這是中國特有的技術嘗試，有望繞開某些國外專利與核心部件依賴。

這反映出中國不僅在做“模仿”，更在嘗試在核心光源技術上尋找可能超越現有思路的創新。這樣的多線研發策略，有助于從根本上實現技術自主。

盡管取得了積極進展，但與 ASML 目前成熟的 EUV 系統相比，中國的自主系統還有明顯差距，而這種差距并非短時間能夠彌補：

1. 核心技術差距仍然明顯

ASML 的 EUV 光刻機經過數十年演化，不僅實現了業內領先的光源功率與穩定性，還包括復雜的超精密光學系統、飛秒級控制軟件、納米級光刻定位系統等一整套成熟的產業體系——這不是單純造出原型就能達到的。

即便中國團隊已經能穩定輸出 EUV 光源，目前公開資料顯示的光源功率（約 100 瓦）與現有 ASML 系統的近 600 瓦水平相比，仍有不小差距。且穩定性、壽命、主機集成能力等指標尚未進入量產級別。

2. 產業鏈配套與人才積累仍需時間

光刻機涉及全球最完整的供應鏈與技術積累：高精度光學、真空系統、伺服控制、光刻材料、EDA 軟件等等。中國雖然部分領域快速追趕，但整體配套水平與 ASML 的積累仍有差距。2024 年數據顯示，中國設備國產化率雖在提升，但在高端光刻機領域的自主比重仍然非常有限。

荷蘭專業觀察者馬克·海金克認為，中國要真正造出能夠媲美現有 ASML 高端 EUV 系統的光刻機，還需要大約十年的時間。這一判斷有多層含義：

1. 技術成熟不是“單點突破”

原型機成功輸出光源并不等于可以大規模量產。要進入量產并穩定服務于 7nm、5nm 甚至更先進制程，還需要經過一系列長期驗證、材料成型、系統優化與供應鏈協同，這是一個產業級的循環，而非單次研發迭代。

2. ASML 不會停步

ASML 自身也在推進新一代 High-NA EUV 技術，這將進一步提高芯片制造精度，延伸到 2nm、1.5nm 甚至更先進的領域。而中國研發團隊即使量產了現階段的 EUV 設備，仍可能面對新一輪差距。技術競賽永遠不會停。

3. 戰略與人才積累是長期工程

EUV 光刻機是全球最復雜的裝備之一，它需要跨學科團隊的長期積累。例如光學設計、納米定位系統、清潔真空環境控制、核心軟件算法等。這些學科的突破，往往需要時間來驗證與跨代優化。

盡管 EUV 是最先進制程必不可少的關鍵設備之一，中國目前在 DUV 和多重曝光技術方面已經實現了可用于 7nm 級芯片的量產實踐——這本身就已經是非常不易的突破。

此外，中國本土設備供應商在刻蝕機、沉積機、清洗機等多個后端設備上實現了快速成長，這意味著即便不是最先進的 EUV，中國在特定中高端制程上也有自己的技術路徑。

ASML 的統治地位不僅是技術優勢，更是長期積累與產業生態的結果。中國研發 EUV 光刻機面臨的是一場真正的 “從無到有、從弱到強的科技革命”，這需要政策、資本、人才與國際環境的共同推進。

荷蘭技術專家指出的約 10 年路徑，并不意味著中國研發失敗，而是一種對現實的清醒判斷：與 ASML 的成熟體系相比，中國仍有差距——但這個差距是可以通過堅持與創新逐步縮小的。而中國在這個過程中所擁有的，不僅是技術實力的積累，更是產業自立和國家戰略安全的深遠意義。

“我們不怕差距，不懼競爭，我們更怕失去追趕的勇氣?！敝袊酒a業的每一步進展，都在推動這種勇氣與實力，向世界展示一個更強大的技術未來。

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