美國技術顧問：我們十五年前就幫ASML造出了EUV光刻機，而中國現在還毫無進展，只能用我們已經淘汰的設備

“EUV光刻機，是我們十五年前就規劃好的技術路線。”“如果沒有美國，中國根本不可能進入先進制程。”“現在的中國，只是在用我們已經淘汰的設備，勉強追趕。”

這是美國一些技術顧問、智庫學者、前官員，在談到中國芯片產業時，最常見的語氣。傲慢、居高臨下，甚至帶著一種“歷史已經寫好，你不配改寫”的篤定。但問題是——事實，真的如他們所說嗎？

先說一個很多人容易忽略、但西方內部從不回避的事實：EUV光刻機，從來就不是ASML一家“自主創新”的結果。上世紀90年代末，美國半導體產業已經意識到：傳統193nm浸潤式光刻，遲早會撞上物理極限。于是，美國主導了一場長達二十多年的“國家級技術豪賭”。1997年，在英特爾牽頭下，美國成立了著名的 EUV LLC 技術聯盟，成員包括：英特爾、AMD、摩托羅拉、美國能源部、多個國家實驗室。目標只有一個：為未來10nm以下制程，打造“唯一可行”的光刻方案。

但美國自己并不做整機制造。原因很現實——當年日本在半導體領域過于強勢，美日“芯片摩擦”余波未消，佳能、尼康被排除在核心之外。

最終，被選中的，是體量不大、但技術路徑最激進的——ASML。

一句話總結就是：美國出錢、出人、出底層技術，ASML負責把它“造出來”。

很多人不理解：ASML明明是荷蘭公司，為什么美國一句話，就能決定EUV能不能賣給中國？答案并不復雜。EUV的光源技術，來自美國；EUV的系統架構與控制邏輯，深度嵌入美國產技術；EUV的關鍵專利池，大量源于美國國家實驗室體系；再加上ASML歷史上并購了美國SVG公司，直接繼承了美國EUV許可體系。這就觸發了美國《出口管制條例》中最關鍵的一條：“最小比例原則”。只要設備中受管制的美國技術或價值占比超過規定比例，即便整機在歐洲制造，也必須聽美國的。所以，EUV不是“荷蘭不賣”，而是——美國不準賣。

白宮AI與科技政策顧問戴維·薩克斯，曾公開表示：對中國禁運EUV，是美國在半導體領域最重要、最有效的手段之一。潛臺詞很直白：拿不到EUV， 就只能用DUV，用DUV，就永遠慢一代、貴一代、險一代。

于是，一些美國技術顧問開始下結論：“中國現在所謂的先進芯片，本質上還是用我們已經淘汰的設備，硬湊出來的。”聽上去，好像勝券在握。但他們忽略了一個問題：歷史上，所有真正完成產業追趕的國家，靠的從來不是“順利獲得最先進設備”。

中國沒有EUV，但沒有停下制造。2018年起，中國被系統性切斷EUV獲取渠道；2020年后，DUV出口也被不斷加碼限制；2023年，連設備維護與備件都開始受控。在這種條件下，中國企業能做什么？答案是——把一條本不該再被走的路，走到極限。多重圖形化、工藝窗口壓縮、制程協同重構、制造流程重設計。這不是“投機”，而是工程能力的硬碰硬。

結果大家已經看到：7nm制程芯片實現商用，在沒有EUV的情況下，完成了原本認為“不可規模化”的節點，并真正進入了手機、終端設備市場。這不是實驗室樣品，而是量產體系的結果。

真正讓美國感到不安的，從來不是某一個制程數字。而是三個趨勢：第一，中國不再把拿到最先進設備作為唯一前提。路線開始多樣化，系統能力開始重構。第二，中國在設備、材料、工藝、封裝上的同時推進。不是單點突破，而是體系補齊。第三，也是最關鍵的一點：中國已經不再指望被重新接納進全球高端供應鏈。而是開始構建一個沒有EUV，也能繼續演進的制造體系。這，才是西方最難接受的地方。

十五年前，美國確實站在技術食物鏈的最頂端。今天，美國依然掌握著EUV的話語權。但技術史反復證明一件事：封鎖，往往不是終點，而是分叉點。美國可以繼續說：“你們沒有進展”、“你們只能用淘汰設備”、“你們永遠追不上最前沿”。

但現實已經開始悄然變化。當一個國家，被迫在最苛刻條件下，把工程能力、制造韌性、系統整合壓到極致——它真正學會的，是如何在沒有你時繼續前進。這條路很慢，但它一旦走通，就再也回不去了。而歷史，從來不缺這樣的先例。

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