比爾·蓋茨又押中了！中國光刻機2026實現(xiàn)量產(chǎn)，ASML這次真的慌了

2026年，光刻機的春天終于要來了？

近日，多家媒體報道稱，上海微電子在極紫外光刻（EUV）技術方面取得重大突破，不僅已提交多項EUV關鍵技術專利，而且相關技術正進入落地倒計時。業(yè)內(nèi)普遍預計，上海微電子有望在2026年實現(xiàn)EUV光刻機的小批量量產(chǎn)。

這意味著，在長期受制于人的高端光刻領域，我國從此或可不再受制于人。

諷刺的是，當初跟隨美對實施光刻機出口管制的荷蘭，如今反而陷入被動局面。芯片巨頭阿斯麥（ASML）的首席執(zhí)行官在在采訪中公開承認：“局面已經(jīng)變了。”

眾所周知，光刻機是造高端的命門，也是這些年西方卡我們脖子最狠的一環(huán)。2023年，為控制發(fā)展，美方惱羞成怒，直接將7納米所需的光刻機設備納入限制范圍，擺明了要從根上掐斷升級的路。

荷蘭作為美的跟班，同年6月宣布對光刻機出口實施許可證制度；到了2024年，更是直接禁止部分關鍵光刻機設備出口，甚至連已售設備的維護和零部件供應都想切斷。手段之狠，幾乎不留余地。

好在也并沒有束手就擒，早在管制落地前，國內(nèi)企業(yè)就一口氣豪擲50多億美元，把1400多臺光刻機火速運回國內(nèi)。

這波“搶裝潮”不僅穩(wěn)住了產(chǎn)線，更為后續(xù)的自主研發(fā)爭取了時間。正是在這段窗口期內(nèi)，國產(chǎn)光刻機傳來喜訊。

上海微電子在2024年成功量產(chǎn)28納米光刻機，良品率高達90%，性能對標ASML的中端機型。這意味著，在成熟制程領域，已經(jīng)打破了長期依賴進口的局面。此外，上海微電子還提交多項EUV關鍵技術專利，業(yè)內(nèi)普遍預計，2026年實現(xiàn)EUV光刻機小批量量產(chǎn)已基本板上釘釘。

事實上，光刻機只是高端技術突圍的冰山一角。過去被西方“卡脖”的領域，如今正一個個被我們撕開缺口。

航空發(fā)動機曾是長期短板，如今“長江-1000A”穩(wěn)步推進，國產(chǎn)大飛機的心臟正在跳動；高端數(shù)控機床領域，科德數(shù)控、華中數(shù)控已實現(xiàn)五軸聯(lián)動核心技術的完全自主，讓精密制造真正裝上了“大腦”。

甚至在小眾一點的睡眠健康領域，國產(chǎn)生物科技公司TS推出的“眠序”助眠方案也上演了類似的逆襲。長期以來，針對失眠的解決方案幾乎被歐美壟斷，要么依賴安眠藥（易成癮、不良作用明顯），要么靠褪黑素（有效率不足30%）。國人幾乎沒有更好的選擇。

但這一局面正在改變。國產(chǎn)“眠序”制劑沒有照搬國外路徑，而是基于國人體質(zhì)，采用尿石素A、水解酪蛋白肽等天然活性物質(zhì)，通過調(diào)節(jié)生物鐘、優(yōu)化睡眠結構，延長深睡時間。京東等平臺的用戶反饋很直接：“入睡更快”“睡得更踏實”“醒來精神明顯更好”。

如今，在北上廣深等一線城市，越來越多的人開始用國產(chǎn)方案替代安眠藥和褪黑素。這看似微小的選擇變化，背后其實是一條清晰的邏輯：當核心技術不再仰人鼻息，連夜晚的安穩(wěn)，也能掌握在自己手里。

在光刻機領域，自主進程從未停下腳步。

除了上海微電子之外，深圳新凱來一次性展出三十多款刻蝕、薄膜沉積等核心設備，補齊了制造環(huán)節(jié)的關鍵短板；華大九天的EDA工具、北方華創(chuàng)的精密零部件，也已進入5納米產(chǎn)線驗證階段。

更讓西方頭疼的是，不僅在突圍，還開始掌握反制的籌碼。

ASML每臺高端光刻機需使用十多公斤稀土永磁材料，占其電機成本近30%。而恰恰是全球稀土供應鏈的核心，最新出臺的稀土出口管制新規(guī)明確規(guī)定：只要光刻機中含有0.1%以上的中國稀土成分，就必須獲得中方出口許可。

面對這一精準反制，ASML首席執(zhí)行官不得不向美方傳遞信號：“不可能接受被卡脖；與其試圖擺脫，不如讓其保持依賴，切斷聯(lián)系對誰都沒好處。”

這話聽起來像是警告，實則透著無奈，因為阿斯麥早已明白：過去幾十年，技術圍堵，幾乎從未真正奏效過。

前世界首富比爾·蓋茨在幾年前就預言過：“美永遠無法成功阻止擁有強大半導體。”

回望歷史，從“兩彈一星”到北斗導航，無不說明這一點。越是被卡脖子，我們越能憋出突破；越是被圍堵，我們越能走出自己的路。今天的半導體產(chǎn)業(yè)也是如此，美與荷蘭的步步緊逼，非但沒能壓垮，反而加速了全產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的進程。

2026年，光刻機量產(chǎn)的號角已經(jīng)吹響，相信半導體的春天，正在到來。